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產(chǎn)品展示/ Product display

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二氧化硅消光粉高速膠體磨

二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

  • 產(chǎn)品型號:XMD2000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2023-11-13
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1818
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詳細介紹

二氧化硅消光粉高速膠體磨

光用二氧化硅膠體磨,二氧化硅消光粉膠體磨,消光粉濕法膠體磨,微納米二氧化硅膠體磨,粒度均勻超微消光粉膠體磨,管線(xiàn)式高速膠體磨,化工用消光粉膠體磨,立式分體消光粉膠體磨

二氧化硅消光粉外觀(guān)為白色分散性粉末狀或顆粒狀,廣泛應用于涂料工業(yè)。通過(guò)對其粒徑大小、粒徑分布和表面性能的控制,消光粉能夠為不同的涂料和印刷油墨提供出色的啞光效果。消光粉具有很高的消光效率和爽滑的表面手感,平均粒徑小且集中。

在傳統膠體磨基礎上改進(jìn),不僅使轉速由原來(lái)的3000轉提升到了14000轉,甚至是21000轉的超高轉速,細碎效果更好,作用效率更快,同時(shí)在結構是除了原本有的細碎研磨功能以外,更增設了高速離心分散功能,使物料在細碎過(guò)后能夠更加穩定的分散,不分層,不沉淀。 改進(jìn)型膠體磨依靠定轉子間間隙(間隙可調)使物料在通過(guò)研磨區域使受到強大的機械力、液力剪切、高頻振動(dòng)等多重力的物理作用,被高效快速的剪切剝離、分散、粉碎,隨后進(jìn)過(guò)第二級高速剪切分散盤(pán)再一次剪切細化分散、勻化,達到物料超細粉碎和分散勻化的效果。

1、耐有機溶劑、耐腐蝕; 
2、材質(zhì)為316L不銹鋼; 
3、設備定轉子(研磨分散工作腔體)間間隙可調,粒度可控; 
4、設備整體機身夾套設計,高轉速產(chǎn)生的熱量可以通過(guò)外接冷卻設備進(jìn)行控溫; 
5、主軸與電機分體設計,用戶(hù)可根據需要選擇適當的轉速; 
6、設備為變頻調速,可通過(guò)變頻控制柜合理準確的調節設備轉速; 
7、可靈活設計生產(chǎn)過(guò)程中的特殊需求(設備表面光潔度、真空、防爆、設備材質(zhì)); 
8、從實(shí)驗室設備平穩過(guò)渡到中試型實(shí)驗以及后期的工業(yè)化放大實(shí)驗,無(wú)需重新調整實(shí)驗數據,程度降低了風(fēng)險 

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線(xiàn)速度

m/s

馬達功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

二氧化硅消光粉高速膠體磨

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